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　　2、包括以下质量百分含量的各组分 ： 氧化 铝 1-40%， 表面活性剂聚丙烯酸 0.2-1%， 缓蚀剂 磷酸氢二钠 0.2-2%， pH 调节剂 1-10%， 去离子水 48-97.6%， 所述氧化铝为 氧化铝， 平均粒径为 200-10000 纳米， 所述抛光液的 pH 范围优选为 2-4。该抛光液用于铝合金或不锈钢基片抛光， 能 够快速实现合金表面的平坦化。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 3 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书3页 (10)申请公布号 CN 103937413 A CN 103937413 A 1/1

　　3、页 2 1. 一种用于合金抛光的氧化铝抛光液， 其特征在于， 包括以下质量百分含量的各组 分 ： 所述表面活性剂为聚丙烯酸， 十二烷基硫酸钠， 二苯胺磺酸钠中的一种或其任意组合 物。 2. 如权利要求 1 所述的用于合金抛光的氧化铝抛光液， 其特征在于， 所述氧化铝为 氧化铝， 所述氧化铝的平均粒径为 200-10000 纳米。 3. 如权利要求 1 所述的用于合金抛光的氧化铝抛光液， 其特征在于， 所述缓蚀剂为磷 酸氢二钠、 醋酸、 草酸、 苯并三氮唑、 硫脲和 2- 甲基咪唑， 2- 异丙基咪唑中的一种或数种的 组合。 4. 如权利要求 1 所述的用于合金抛光的氧化铝抛光液， 其特征在于，

　　4、 所述 pH 调节剂为 碱性有机胺或有机酸， 碱性有机胺如三乙胺和二异丁基胺中至少一种， 有机酸如乙二胺四 乙酸和柠檬酸中至少一种。 5. 如权利要求 1 所述的用于合金抛光的氧化铝抛光液， 其特征在于， 所述抛光液的 pH 范围为 2-11， 优选为 2-4。 6. 如权利要求 1-4 任一项所述的用于合金抛光的氧化铝抛光液的制备方法， 其特征在 于， 包括如下步骤 ： 1） 按配方分别称量各组分 ； 2） 在所述去离子水中加入所述表面活性剂， 搅拌均匀， 得混合物一 ； 3） 然后在混合物一中加入缓蚀剂磷酸氢二钠， 搅拌均匀， 得混合物二 ； 4） 在混合物二中加入 pH 调节剂， 调节至

　　5、期望 pH 值， 搅拌均匀， 即得到所述氧化铝抛光 液。 权 利 要 求 书 CN 103937413 A 2 1/3 页 3 用于合金抛光的氧化铝抛光液及其制备方法 技术领域 0001 本发明涉及手机、 电脑等电子产品表面制造抛光技术领域， 具体涉及一种氧化铝 抛光液及其制备方法， 所述抛光液用于合金基片的抛光处理。 背景技术 0002 近几年， 金属合金在手机外壳、 电脑外壳及边框等电子产品领域中的应用越来越 多。在这些应用中， 金属合金毛培一般都是先经过数字控制机床中的刀具切割成初具形状 的半成品， 然后再经过几步表面研磨抛光等加工工艺后达到镜面效果。经过刀具切割的铝 合金表面， 存在大

　　6、量刀纹， 即宏观划痕。要实现铝合金表面的全局平坦化和镜面效果， 化学 机械抛光是目前唯一可大规模生产的方法。一般来说， 先经过含有硬质的大颗粒的抛光液 抛光去掉刀纹， 然后再经过含有软质的小颗粒的抛光液抛光实现光泽表面。硬质的大颗粒 的抛光液一般有氧化铝抛光液和金刚石抛光液， 但总会出现去除率不足或者划伤较多的现 象。 发明内容 0003 为了克服现有技术的不足， 本发明提供了一种用于合金抛光的氧化铝抛光液及其 制备方法， 用于合金基片抛光， 该抛光液能够减少氧化硅的结晶， 从而降低铝合金或不锈钢 表面划伤和划痕。 0004 本发明首先公开了一种用于合金抛光的氧化铝抛光液， 包括以下质量百分含

　　7、量的 各组分 ： 0005 0006 0007 所述表面活性剂为聚丙烯酸， 十二烷基硫酸钠， 二苯胺磺酸钠中的一种或其任意 组合物。 0008 所述氧化铝为 氧化铝， 所述氧化铝的平均粒径为 200-10000 纳米。 0009 所述缓蚀剂为磷酸氢二钠， 醋酸、 草酸、 苯并三氮唑、 硫脲和 2- 甲基咪唑， 2- 异丙 基咪唑中的一种或数种的组合。 0010 所述 pH 调节剂为碱性有机胺或有机酸， 碱性有机胺如三乙胺和二异丁基胺中至 少一种， 有机酸如乙二胺四乙酸和柠檬酸中至少一种。 说 明 书 CN 103937413 A 3 2/3 页 4 0011 所述抛光液的 pH 范围为 2-1

　　8、1， 优选为 2-4。 0012 本发明还提供了一项上述用于合金抛光的氧化铝抛光液的制备方法， 包括如下步 骤 ： 0013 1） 按配方分别称量各组分 ； 0014 2） 在所述去离子水中加入所述表面活性剂， 搅拌均匀， 得混合物一 ； 0015 3） 然后在混合物一中加入缓蚀剂磷酸氢二钠， 搅拌均匀， 得混合物二 ； 0016 4） 在混合物二中加入 pH 调节剂， 调节至期望 pH 值， 搅拌均匀， 即得到所述氧化铝 抛光液。 0017 本发明的有益效果为 ： 0018 本发明所述氧化铝抛光液， 能够降低氧化硅的结晶， 从而避免铝合金在抛光时划 伤铝合金或不锈钢表面并产生划痕， 其配方简

　　9、单， 原料廉价易得， 值得推广并广泛应用于手 机、 电脑等电子产品制造抛光领域。 具体实施方式 0019 实施例 1 ： 一种用于合金抛光的氧化铝抛光液， 包括以下质量百分含量的各组分 ： 0020 0021 所述表面活性剂为聚丙烯酸。 0022 所述氧化铝为 氧化铝， 所述氧化铝的平均粒径为 200 纳米。 0023 所述缓蚀剂为磷酸氢二钠。 0024 所述 pH 调节剂为三乙胺和二胺四乙酸的混合物。 0025 使用上述材料制作所述合金抛光的氧化铝抛光液的制备方法， 包括如下步骤 ： 0026 1） 按配方分别称量各组分 ； 0027 2） 在所述去离子水中加入所述表面活性剂聚丙烯酸， 搅拌

　　10、均匀， 得混合物一 ； 0028 3） 然后在混合物一中加入缓蚀剂磷酸氢二钠， 搅拌均匀， 得混合物二 ； 0029 4） 在混合物二中加入 pH 调节剂， 调节 pH 值为 2-4， 搅拌均匀， 即得到所述氧化铝 抛光液。 0030 实施例 2 ： 一种用于合金抛光的氧化铝抛光液， 包括以下质量百分含量的各组分 ： 0031 说 明 书 CN 103937413 A 4 3/3 页 5 0032 所述表面活性剂为聚丙烯酸及十二烷基硫酸钠的混合物。 0033 所述氧化铝为 氧化铝， 所述氧化铝的平均粒径为 500 纳米。 0034 所述缓蚀剂为磷酸氢二钠。 0035 所述 pH 调节剂为二异丁

　　11、基胺。 0036 使用上述材料制作所述合金抛光的氧化铝抛光液的制备方法， 包括如下步骤 ： 0037 1） 按配方分别称量各组分 ； 0038 2） 在所述去离子水中加入所述表面活性剂， 搅拌均匀， 得混合物一 ； 0039 3） 然后在混合物一中加入缓蚀剂磷酸氢二钠， 搅拌均匀， 得混合物二 ； 0040 4） 在混合物二中加入 pH 调节剂， 调节 pH 值为 9-10， 搅拌均匀， 即得到所述氧化铝 抛光液。 0041 利用抛光机使用上述氧化铝抛光液对铝合金基片进行抛光加工， 均可以得到光洁 的镜片效果， 达到非常好的抛光效果， 避免了铝合金在抛光时划伤铝合金或不锈钢表面并 产生划痕， 可广泛应用于手机、 电脑等电子产品制造抛光领域。 0042 以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明， 不能认定 本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说， 在 不脱离本发明构思的前提下， 其架构形式能够灵活多变， 可以派生系列产品。 只是做出若干 简单推演或替换， 都应当视为属于本发明由所提交的权利要求书确定的专利保护范围。 说 明 书 CN 103937413 A 5